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1、卷绕系统
卷绕系统主要由直流电机传动的放卷辊、收卷辊、镀膜鼓、导向辊、张力测量(控制)辊、展平辊以及电阻测试辊等部件组成,它的作用是按照一定的速度和张力将基材薄膜输送到镀膜区进行镀制后,再将已镀膜的基材薄膜收卷成筒状卷膜。通过控制薄膜卷绕的速度、张力以及展平辊的角度等工艺参数,可以避免产生皱纹而得到收卷整齐的膜卷。
2、速度控制和张力控制
速度控制:带状基体的线速度恒定是保证膜厚均匀的首要条件。卷绕系统带材的速度控制多数采用以电流控制为主的速度恒定控制,速度都可以根据产品的要求,事先设定、自动调节。
张力控制:薄膜张力控制在卷绕镀膜设备中是一个关键问题。张力控制同膜的跑偏、暴筋、起皱等现象均有关系。
3、蒸发系统由蒸发源夹座(电极)、蒸发源、送丝机构等组成。
4、PVD镀膜设备真空室开启机构:大型双室半连续蒸发镀膜机的开启机构一般由真空室体,卷绕机构,密封大板,动力柜,行程开关和小车组成。根据镀膜基本材料的幅宽,确定单门还是双门开启。常见的卷绕镀膜机真空室多是单门开启,蒸发器仍在镀膜室内。
5、屏蔽组件:就是要在膜上屏蔽出未镀膜的条纹或网纹,这是电容器膜的特殊要求,普通电容器的屏蔽第纹是沿着基膜的纵向延伸的,安全电容器膜的屏蔽条纹是网纹。
6、真空镀膜机系统:一般情况下,卷绕镀膜设备的卷绕室和镀膜室各有一套独立的真空泵组。通常,国内外的卷绕镀膜机所采用的真空抽气系统的蒸镀室主泵为测报扩散泵,卷绕室主泵为大抽速的油扩散喷射泵。
如在压力不够低 ( 或者说真空度不够高 ) 的情况下同样得不到好的结果, 比如在10 2托数量级下蒸镀铝,得到的膜层不但不光亮,甚至发灰、发黑,而且机械强度极差。
薄膜沉积技术主要分为物理、化学、外延三大工艺。物理气相沉积简称PVD真空镀膜机。化学气相沉积简称为CVD镀膜机。
在真空室内,当气相中的粒子浓度和残余气体的压力足够低时,这些粒子从蒸发源到基片之间可以保持直线飞行,否则,就会产生碰撞而改变运动方向。
真空镀膜设备运用常见的两种镀膜工艺,蒸镀、溅镀,这两种工艺目前使用最普及、广泛,它的关注度自然也是别的工艺高很多。
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