卷绕式镀膜设备 - ITO膜卷绕式真空磁控镀膜机

鼎益科技生产的卷绕式真空镀膜设备具有高真空获得能力,能够进行PET、PI等柔性薄膜材料的高精度往复卷绕传输,通过人机对话的形式来实现系统的工作数据显示、操作与控制,以实现真空系统的全自动预热操作,抽气和冷泵作业、红外线加热等。

设备特点：

本设备对柔性基体材料传动主辊、收卷辊、放卷辊的驱动装置采用司服电机进行调速,配合其张力传感器、来实现薄膜传输过程中收放卷卷绕的恒张力自动控制。

本设备的镀膜主辊配备了-套快速高效的真空镀膜专用加热装置,该装置用于在进行真空镀膜操作时将镀膜主辊表面加热至镀膜工艺要求的温度,用以加热被镀的基体材料。

本设备在真空工作室内装有一套大面积的低温冷冻盘管,利用进口低温深冷系统以抽除真空室水汽。

主机含一套离子源系统,对膜层进行改性处理,含水冷和充气系统,均匀性高。

可根据工艺要求配置MF孪和DC阴极系统。

真空室的结构为一卧式半圆柱形简体,真空室整体采用304不锈钢制造。

真空室正/反面各配有矩形观察窗1个,用以观察基体材料卷绕以及镀膜效果;侧面配有圆形观察窗可以辅助观察基体材料开卷及镀膜情况。

卷绕系统由基体材料卷绕装置和移动动力小车等组成。基体材料卷绕装置由放卷装置、镀膜主辊、收卷装置和部分导辊以及安装这些辊系的大、小墙板等部件组件组成。采用司服电机进行调速,配合其张力传感器、来实现镀膜过程中收放卷卷绕的恒张力自动控制;系统带有基体材料预紧(防松卷)等功能。

真空抽气系统采用分子泵、国产油扩散泵做为排气主泵,保证镀膜所需的的真空度。

ito薄膜是什么 :ITO薄膜的特性及用途

ITO薄膜是一种n型半导体材料，具有高的导电率、高的可见光透过率、高的机械硬度和良好的化学稳定性。接下来，详细为你说下ito薄膜是什么，ITO薄膜的特性及用途。

一、ito薄膜是什么
ITO薄膜是一种n型半导体材料，具有高的导电率、高的可见光透过率、高的机械硬度和良好的化学稳定性。它是液晶显示器（LCD）、等离子显示器（PDP）、电致发光显示器（EL/OLED）、触摸屏（TouchPanel）、太阳能电池以及其他电子仪表的透明电极最常用的薄膜材料。

二、ITO薄膜的特性及用途
ITO薄膜具有复杂的立方铁锰矿结构，其特性主要有：
1）导电性能好（电阻率可低达10-4Ω·cm），带隙宽3.5~4.3eV，载流子浓度（1021cm-3）和电子迁移率（15~45cm2V-1s-1）较高；
2）在可见光波段透过率，可达85%以上；
3）对紫外线的吸收率较高，可达85%以上；
4）对红外线具有反射性，反射率高于80%；
5）对微波具有衰减性，衰减率可达85%以上；
6）膜层硬度高，耐磨，耐化学腐蚀（氢氟酸等除外）；
7）膜层具有很好的酸刻、光刻性能，便于细微加工，可以被刻蚀成不同的电图案。
随着显示器件行业的飞速发展，对ITO薄膜的产品性能特性提出了新的要求。同时ITO薄膜制备技术的深入发展，使显示器件的需要变成可能。不同性能的ITO薄膜可以在不同显示器件中的应用。

涂层示例

鼎益科技
可根据用户要求设计各种规格型号的真空镀膜机。

真空机组及电控系统也可根据用户要求进行设计配置。

鼎益科技国际领先水平的镀膜应用解决方案：提供设备、材料、加工、技术、项目配套等系统服务

鼎益真空镀膜设备有：蒸发镀膜机、磁控溅射镀膜机 、磁控蒸发两用镀膜机 、多弧离子镀膜机 中频离子镀膜机 、AF镀膜机、超硬质涂层镀膜机、卷绕式镀膜机、PVD镀膜线、镀膜项目配套总成。

PVD工艺技术采用在真空条件下，通过蒸馏或溅射等方式在塑件表面沉积各种金属和非金属薄膜。

鼎益科技根据产品的特性匹配最佳的镀膜工艺方案。

鼎益真空镀膜机祖设备在行业优势特点所在：专业、诚信、可靠。