功能性真空镀膜设备 - 磁控溅射镀膜机 - EMI屏蔽真空镀膜机

设备介绍
电磁干扰(EMI)屏蔽金属器的应用。
其他需要电磁干扰屏蔽功能的行业
基板材料。ABS，PC，PC+ABS，塑料等。

EMI屏蔽膜特性
.薄膜厚度：1.5 ~ 3微米，取决于要求。
.薄膜电阻。(欧姆)优于0.5Ω
.附着力：3M810胶带>5B
.EMI 屏蔽膜的涂覆工艺
.直流溅射不锈钢
.热蒸发法沉积铜
.直流溅射不锈钢，完全覆盖在Cu膜层上。

功能型镀膜设备溅射蒸发镀膜机是专门为EMI屏蔽薄膜沉积而设计的，广泛用于电信设备、计算机、笔记本电脑、消费电子、家用电器、手机外壳、笔记本电脑外壳、雷达测速仪器、汽车视频部件、航空航天、军事项目。

设备特点
1) 双门结构和快速的泵送速度，实现高生产率
2）用户友好的触摸屏面板和PLC控制
3)用户友好的软件程序设计，生产稳定，质量高。
4) 溅射靶材利用率高，确保生产成本低。
5)良好的均匀性&优秀的附着力
6)先进的设计理念，以更好的性能来提高生产效率和质量率。
7) 离子源装置用于等离子体清洗和表面活性处理，提高附着力。
8) 通过Polycold-水蒸气低温泵，高真空抽气时间缩短25%至75%。在加工过程中降低水蒸气分压，以获得更高的薄膜质量，更好的附着力和更多的可重复的沉积。

鼎益真空科技：磁控溅射镀膜机

涂层案例

鼎益科技
公司可根据用户要求设计各种规格型号的真空镀膜机。

真空机组及电控系统也可根据用户要求进行设计配置。

鼎益提供国际领先水平的镀膜应用解决方案：提供设备、材料、加工、技术、项目配套等系统服务。

鼎益真空镀膜设备有：蒸发镀膜机、磁控溅射镀膜机 、磁控蒸发两用镀膜机 、多弧离子镀膜机、中频离子镀膜机 、AF镀膜机、超硬质涂层镀膜机、PVD镀膜线、PVD镀膜项目配套总成。

PVD工艺技术采用在真空条件下，通过蒸馏或溅射等方式在塑件表面沉积各种金属和非金属薄膜。

鼎益科技根据产品的特性匹配最佳的镀膜工艺方案。

鼎益真空镀膜机械设备在行业优势特点：专业、诚信、可靠。