真空镀膜设备厂家

PACVD 又叫 PECVD （离子强化气相沉积）

PACVD 离子加强化学气相沉积是在高度真空环境，温度低于 200 ℃的情况下，沉积极度光滑，粘着性能好的无定形金刚石硬质合金涂层。相对 PVD 工艺， PaCVD 工艺应用深镀电源，无需阴极靶材，同时工件在炉膛中无需旋转，该工艺为干净无污染，可靠，和多性能的涂层工艺。

PACVD 离子加强化学气相沉积是在高度真空环境，温度低于 200 ℃的情况下，沉积极度光滑，粘着性能好的无定形金刚石硬质合金涂层。